核心技術依賴中國!三星、SK海力士將不得不尋求長江存儲的專利許可
無論是三星還是SK海力士,想要生產下一代NAND閃存,都無法繞開長江存儲的專利!
今天下午,韓國媒體ZDNET Korea報道,三星電子近日與長江存儲簽署了3D NAND混合鍵合專利許可協(xié)議。因為評估認為,下一代NAND業(yè)務的不確定性增加,從V10(第10代) NAND開始,已經(jīng)無法再避免長江存儲專利的影響。
除了三星,ZDNET Korea還強調,韓國另一大存儲芯片巨頭SK海力士的下一代NAND閃存芯片的核心專利,也需要依賴中國,預計SK海力士也將與長江存儲簽署專利協(xié)議。
看到這里,可能有讀者會好奇,目前三星、SK海力士幾乎壟斷了全球的NAND市場,那為什么在下一代NAND閃存芯片領域,又必須依賴長江存儲呢?
三星原有技術不適應下一代NAND閃存芯片
V10是三星電子的下一代NAND,計劃于今年下半年量產。根據(jù)三星的規(guī)劃,V10的堆疊層數(shù)估計在420到430之間。
但目前,量產的NAND閃存的堆疊層數(shù)都在300層左右。其中,海力士、三星當前量產的堆疊層數(shù)最高的產品堆疊層數(shù)分別為286層、321層。
那么,如何將3D NAND閃存芯片的堆疊層數(shù)從300層提高到400層?這并不是常規(guī)的技術演進,涉及到重大的技術跨越。而在這個技術跨越中繞不開長江存儲的專利。
據(jù) ZDNet 報道,三星之前在 NAND 生產中使用了 COP(外圍單元)方法,即將外圍電路置于一個晶圓上,并將單元堆疊在上面。然而,隨著層數(shù)超過 400,下層外圍的壓力會影響可靠性,即施加于下部渡輪的壓力可能會變得很大并造成損壞。
因此,三星、海力士等企業(yè)決定采用W2W(晶圓到晶圓)混合鍵合技術,即在單獨的晶圓上制造電池和渡線,然后將它們組合成一個。而這一技術,其實就是長江存儲大約四年前就開始積極量產名為“Xtaking”的混合鍵合技術。
長江存儲的優(yōu)勢?
據(jù)ZDNET Korea報道報道,目前擁有混合鍵合相關技術專利最多的三家公司分別是Xperi、長江存儲和TSMC。那么,為什么三星為什么首先要與長江存儲合作?
從ZDNET Korea的報道來看,長江存儲擁有以下幾大優(yōu)勢:
1、長江存儲擁有多項獨家技術
最初,長江存儲與美國專利授權公司Xperi簽署協(xié)議獲得了混合鍵合技術的原始專利。此后,長江存儲通過自主技術創(chuàng)新,在混合鍵合技術技術方面又建立了相當多的自主技術專利。
2、長江存儲的“Xtaking”技術已經(jīng)穩(wěn)定量產
目前,長江存儲的“Xtaking”技術已經(jīng)演進到第四代,即“4.x”版本。長江存儲此前已利用Extacking技術量產了160級、192級、232級等產品。因此,有評估認為這已實現(xiàn)了混合鍵合的技術穩(wěn)定。
相比之下,Xperi是一家專利授權公司,而臺積電雖然是一家半導體代工企業(yè),但其本身并不生產NAND閃存芯片。
最后,ZDNET Korea援引知情人士的話稱: “三星電子也是在判斷其在V10、V11和V12等下一代NAND的開發(fā)中幾乎不可能避開長江存儲的專利的情況下簽訂了許可協(xié)議?!?/p>
不過需要注意的是,雖然三星獲得了長江存儲的專利授權,但在生產成本上,還是會高于長江存儲。TechInsights 的 Choi Jeong-dong 博士表示:“由于存在許多變化,例如工藝轉換和新設施投資,因此與長期采用混合鍵合技術的長江存儲相比,制造成本必然會高得多?!?/p>
延伸閱讀:韓國在半導體基礎、原創(chuàng)研究方面已經(jīng)落后中國
韓國媒體東亞日報報道,據(jù)韓國科學技術企劃評價院23日的報告書顯示,以2024年為準,韓國在半導體核心技術5個領域中,在高集成存儲器,高性能人工智能半導體,電力半導體,新一代高性能傳感技術等4個領域落后于中國。在先進封裝技術領域,被評價為與中國打個平手。
報告書評價說,以半導體技術生命周期為準,在工藝和批量生產技術上,韓國雖然領先于中國,但在基礎、原創(chuàng)研究和設計技術上,不僅落后于中國,而且在主要國家中處于最低水平。
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